據報道，據“中國光谷”公眾號消息，近日，光谷企業在半導體專用光刻膠領域實現重大突破：武漢太紫微光電科技有限公司推出的T150 A光刻膠產品，已通過半導體工藝量產驗證，實現配方全自主設計，有望開創國內半導體光刻制造新局面。該產品對標國際頭部企業主流KrF光刻膠系列。相較于國外同系列產品，T150 A在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到120nm，且工藝寬容度更大，穩定性更高。 隨著全球半導體制程向著更先進、更精細化方向發展，驅動了半導體制造對光刻膠的需求增長。開源證券表示，在KrF光刻膠方面，隨著3D NAND堆疊層數迅速增加，對光刻膠的使用量將大幅提升。預計至2024年底，我國將建立32座大型晶圓廠，且全部鎖定成熟制程，光刻膠總體需求量增速將快速復蘇。 彤程新材上半年導入多款高分辨KrF、ArF光刻膠(含干式和浸潤式)和BARC底部抗反射涂層等產品陸續通過客戶認證，其中ArF光刻膠已開始形成銷售;雅克科技的OCPS光刻膠產線建設完成，產品正在客戶端導入測試。 |
